1969 Çѱ¹°øÀÛ±â°è(ÁÖ) ¼³¸³
  1982 ¹ü¿ë¼±¹Ý °³¹ß (½ºÀ® 900mm)
  1985 NC ¼±¹Ý °³¹ß
  1987 NC ROLL Àü¿ë¼±¹Ý °³¹ß
  1988 MILLING MACHINE ±â¼úÁ¦ÈÞ(ÀϺ» IKEDA)
    PLANOMILLER ±â¼úÁ¦ÈÞ(ÀϺ» MARUFUKU)
  1989 CNC ¼±¹Ý ±â¼úÁ¦ÈÞ(ÀϺ» DAINICHI)
  1989 ºÎ¼³±â¼ú¿¬±¸¼Ò ¼³¸³
  1990 ´ëÇü CNC ¼±¹Ý °³¹ß(½ºÀ® 630~1700mm)
  1992 ±¹³»ÃÖÃÊ 5¸é°¡°ø±â °³¹ß (Å×À̺í 1800¡¿4000)
  1993 ±¹³» ÃÖ´ë±Ô¸ð ¹ü¿ë¼±¹Ý °³¹ß (½ºÀ® 3060mm)
  1994 CNC ¼öÁ÷¼±¹Ý °³¹ß
  1995 SEMI-NC¼±¹Ý ±¹³»ÃÖÃÊ °³¹ß
  1997 EM¸¶Å© ȹµæ(CNC ¼öÁ÷¼±¹Ý, SEMI-NC¼±¹Ý)
    ISO 9001 ǰÁú½Ã½ºÅÛ ÀÎÁõ
  1998 EM¸¶Å© ȹµæ(´ëÇü º¸Åë¼±¹Ý)
  1999    ±¹³»ÃÖÃÊ °î¸é ÀÚµ¿ ±ÝÇü¿¬¸¶±â °³¹ß
  2002 ±¤ÇÐÇÊÅÍ Æòźȭ¿ë LAPPING MACHINE °³¹ß (16B)

  
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1998.11.12
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0238127È£
1999.10.12
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ÄÁµð¼Ç³Ê (Pad Conditioner)
ƯÇãÁ¦ 0233953È£
1999. 7. 12
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÷åúÉð¯ 2815349
1998. 8. 14
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5
PAD CONDITIONER FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS
Patent 5,904,615
1999. 5. 18
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6
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ƯÇãÁ¦ 0254627È£
2000. 2. 3
7
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ƯÇãÁ¦ 0277491È£
2000. 10. 10
8
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2001. 2. 8
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(2000. 1. 17)
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2002. 3. 23